14.6億與7.6億

據cnBeta、環球（qiú）網、快（kuài）科技（jì）等多家媒體證實，2018年長江存儲從荷（hé）蘭阿斯麥（ASML）公司訂購的一台光刻機已抵達武漢。這（zhè）台光刻機（jī）價值高達7200萬美元，約合（hé）人民幣4.6億元（yuán）。

另據（jù）日經亞洲（zhōu）評（píng）論（Nikkei Asian Review）報道，2018年中芯國際也向阿斯麥下單了一台價值高達1.2億美元，即7.6億人民幣的EUV（極紫外線）光刻機。值得一提的（de）是，訂單價格與中芯國際17年年淨利潤1.264億美元大致相當。這台機器預計將（jiāng）於2019年初交貨。據悉，這是中芯國際向荷蘭AMSL發出的第一張訂單。

荷蘭當地（dì）媒體（tǐ）《埃因霍溫經濟（jì）報》報道了中芯國際的這次購買

雖然是買別（bié）人的東（dōng）西（xī），但是這兩條信息還是足夠令國人興奮，畢竟這種（zhǒng）機器咱們造不出來，人家不（bú）賣給咱們，自己的芯片製（zhì）造就搞不定。

2什麽是光刻機（jī）？

對於普通人來說（shuō），光刻機或許是一個陌生的名詞，但它卻是製造大規模集成電路的核心裝（zhuāng）備，每顆芯片誕生之初，都要經過光刻技術的鍛造。

圖源：知乎@中國科（kē）學院光電技術研究所

簡單地說，光刻機就（jiù）是（shì）把工程（chéng）師的設計‘印入’基底材料，其核心技術長期被荷蘭（lán）、日本、德國（guó）等把持（chí）。

光刻機原理 圖（tú）源：知乎@看風景的蝸牛君

光刻機是芯片製造的核心設備（bèi）之一，按（àn）照用途可以分為好幾種：有用於生（shēng）產芯片的光刻機；有用於（yú）封裝（zhuāng）的光（guāng）刻機（jī）；還有用於LED製造領域的投影光（guāng）刻機。用於生產芯片的光刻機（jī）是中國在半導體設（shè）備（bèi）製造上（shàng）最大的短（duǎn）板，國內晶圓廠所需的高端（duān）光刻機完全依賴進口。

3ASML：現代芯片不可（kě）或缺的支持者

目前（qián），光刻機領域（yù）的龍頭老大是荷蘭（lán）ASML。阿斯麥公司ASML Holding NV創立（lì）於1984年（nián），是從飛利浦獨立出來的一個半（bàn）導體設備製造（zào）商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，於2001年（nián）改為現用名，總（zǒng）部位於（yú）荷蘭費爾德（dé）霍芬，全（quán）職雇員12,168人，是一家半導體設備設計、製造及銷售（shòu）公司。

阿斯麥公司已經占據（jù）了（le）高達80%的市場份額（é），壟斷了高端光刻機市場——最先進的EUV光刻機售價曾高達1億美元一台，且全球僅僅ASML能夠生產。Intel、台積電、三（sān）星都（dōu）是它的股東，重金供養ASML，並且有技術人員駐廠，Intel、三星的14nm光刻機都是買自ASML，格羅方德、聯電等晶圓廠的光刻機主要也（yě）是來自ASML。

上麵這個就是ASML光（guāng）刻機的截（jié）麵圖，這台機器價值不（bú）菲。事實（shí）上中國的芯片製造商們要想量產7nm及其以下的工藝的芯片，就必須引（yǐn）入EUV光刻機。

阿（ā）斯麥公司為半導體生產（chǎn）商提供光刻機及相（xiàng）關（guān）服務，TWINSCAN係（xì）列是目前世界上精度最高（gāo），生產效率最高，應用最為（wéi）廣泛的高端光刻機型。

目前全（quán）球絕大多（duō）數半導體生產廠商，都（dōu）向（xiàng）ASML采購TWINSCAN機型（xíng），例如英（yīng）特（tè）爾，三星，海力士，台積電，聯電，格芯及其它半（bàn）導體廠。隨著（zhe）摩爾定律的發展（zhǎn），芯片走向了7nm以下，這就需（xū）要更高級的EUV光刻係統，全球隻有ASML的NXE:3400B能（néng）夠滿足需求。

未來，隻有他（tā）的EUV光刻（kè）機能夠幫助芯（xīn）片接續微縮，因（yīn）此這些（xiē）設備（bèi）縱（zòng）使賣到上億歐元，都（dōu）能被客戶所接（jiē）受。

接下來（lái）我們走進ASML光刻機工廠，看（kàn）看世界上最貴精密儀器出廠地。

4結語

一方（fāng）麵，AMSL對我們的企業商業態度轉變，由禁售到同意出售最先進的7nm光刻機（jī），可（kě）以預計（jì）芯片水平將繼續提升。

另一方麵，我（wǒ）國在光刻（kè）機領域的進步也是顯著的：

2018年5月（yuè），上海微電子宣布成功（gōng）研發90納米的高精度光刻機，半導體業內人士分（fèn）析稱，攻克90納米的技（jì）術之後，拿下65和45納米就是（shì）順理成章的事了。

2018年11月31日，官方發布消息，中國（guó）科學院光電技術研究所研製的22納米超分（fèn）辨光刻（kè）裝備通過驗收，未（wèi）來（lái）將可以（yǐ）結合雙（shuāng）重曝光技術，用於製造10納米級（jí）別的芯片。

僅從精度的數據上（shàng）看，我們還是落後於荷（hé）蘭ASML不少。不過，看著過往的發展速度，可以相信，未來（lái）不管是光刻機還是芯片技術都會趕上來，一步一步來。